2.2.2 气相制备技术
将一种或几种组分在气相中沉积到基体上也能得到非晶态固体。气相物质是通过加热适当化合物得到的。无化学反应介入时称为非反应沉积 (气相冷却技术),有化学反应介入时则称为反应沉积。气相冷却技术通常用来制取电子和光学应用方面的薄膜,反应沉积法也可制得用传统冷却方法不易得到的块状玻璃或超纯材料。
(1)化学气相沉积法 (CVD) CVD (chemical vapor deposition) 是通过气体原料(先驱反应物) 的热分解或化学反应(气体之间或气体与基板之间) 制备所需固体材料的一种方法。从激励引起气相化学反应方法上可分为热CVD、等离子体CVD、光CVD等三大类。
CVD法可用于SiO2、Si3N4、SiO2-P2O5、SiO2-B2O3等各种功能 ...... (共942字) [阅读本文]>>