4.1 光稳定剂应具备的基本性能
对用于高分子材料的光稳定剂应尽量具备下列几个条件:
(1) 能强烈地吸收或反射290~400nm波长范围的紫外线,或能有效地猝灭激发态的能量,或具有足够地捕获自由基、分解氢过氧化物的能力。即能有效地减缓紫外光对高分子材料的光降解作用,效率高,而且对材料原有物理化学性能和加工性能没有不良影响。
(2) 与被保护材料相容性好,在加工和使用过程中不喷霜、不析出。
(3) 自身热稳定性良好,即在高分子材料加工和使用时耐热性高、不分解、热挥发损失少。
(4) 不吸收可见光或吸收率极低,不致色、不变色,具有良好的光稳定性,在长期暴晒下不遭破坏。
(5) 化学稳定性好,不与材料中其他组分 ...... (共737字) [阅读本文]>>