2.1 引言
自1978年人们首先在掺锗光纤中成功地写入光栅后,光纤光栅的制作正式开始。从1989年紫外侧写技术出现至今,光纤光栅制作技术已取得飞跃进展,已研发出了多种写入方法和实用技术[1]。目前,采用适当的激光光源(紫外光源、CO2激光器、飞秒激光等)、光纤增敏技术(光纤掺杂、高压载氢、涂覆封装等)以及光纤微加工技术(干涉写制、逐点热激、模板曝光、电弧放电、刻槽拉伸、机械压制、化学腐蚀、材料填充、金属镀膜、单元拼接、组合写制等),几乎可以在各种类型的光纤上不同程度地写入光栅。
写制光纤光栅需要适合的激光光源,而每种写制技术均对激光光源有不同要求。从技术实现的角度而 ...... (共818字) [阅读本文]>>