掩模写制技术(MWT)有相位掩模技术(PMT)与振幅掩模技术(AMT)之别。
1) 相位掩模技术
相位掩模技术亦称相位光栅衍射相干技术，由K. O. Hill等人[8]提出并实现，其光栅写制装置及FBG光谱如图2-3所示。
图2-3 相位掩模技术成栅装置及FBG反射谱
(1) 成栅机制。
入射的紫外光经相位模板空间调制，在掩模板后形成不同周期的衍射条纹，使纤芯的折射率形成周期性分布。
(2) 优缺点。
该技术的优点是稳定、重复性好、对光源的相干性要求较低、适于大规模生产;其缺点是每块掩模板只能制作固定(或稍有差异)周期的光纤光栅，且须严格控制掩模板的刻蚀深度和占空比，高质量的模板造价高。
(3) 使用情况。
该技术目前被 ...... （共635字） [阅读本文]>>
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本章主要阐述新型光纤光栅的基本内容，为新型光纤光栅模型构建、理论分析和典型应用打下必要的知识基础。首先，简述光纤光栅的基本概念;然后，以标志性事件为引导，阐述光纤光栅发展的历史沿革;进而，介绍光纤光栅分
光纤光栅(FG)的物质基础是光纤。光纤即光导纤维，它是基于光的全内反射原理制成的一种光传导器件。自1966年高锟博士(K.C.Kao)提出光纤长距离传输光信号的可行性，而后1970年美国康宁公司成功拉制
光纤光栅的发展，从低损耗光纤的拉制成功、光纤光敏性的发现以及光栅制作技术的发展角度分析，可将其分为3个阶段：初始阶段、发展阶段和成熟阶段。而每一阶段发生的标志性事件，则突出记录了光纤光栅的发展历程。
1978—1989年为光纤光栅的初始阶段，其时间跨度约为12年。该阶段的特点是首先发现了光纤光敏性现象，进而发明了光栅写制技术，其中有两个重大标志性事件。1)发现光致折变现象1978年，K.O.Hill
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