1 概要描述与关键技术
1.1 飞秒激光直写量子信息芯片技术
未来通过飞秒激光直写技术，可以定制化地将各种量子线路直接“打印”在空白的二氧化硅(silica)玻璃基片上(见图1)。基本原理是激光在飞秒量级的时间里完成与物质的超快相互作用，实现材料内微米量级区域的改性，主要变现为折射率变化。不同于硅基等传统平面光波导工艺，飞秒激光焦点在材料可三维扫面，突破二维光波导限制。具体实现路径是要针对量子信息技术的特殊需求，发展低损耗、高精度、真三维、高稳定性和可调控等量子信息芯片的核心技术和工艺，研发能符合量子态产生、操控和探测要求的量子信息芯片，最终实现全功能 ...... （共1152字） [阅读本文]>>
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