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  • 第1章 新型光纤光栅概论

    本章主要阐述新型光纤光栅的基本内容,为新型光纤光栅模型构建、理论分析和典型应用打下必要的知识基础。首先,简述光纤光栅的基本概念;然后,以标志性事件为引导,阐述光纤光栅发展的历史沿革;进而,介绍光纤光栅分...查看详细>>

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  • 1.1 引言

    光纤光栅(FG)的物质基础是光纤。光纤即光导纤维,它是基于光的全内反射原理制成的一种光传导器件。自1966年高锟博士(K.C.Kao)提出光纤长距离传输光信号的可行性,而后1970年美国康宁公司成功拉制...查看详细>>

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  • 1.2 光纤光栅的历史沿革

    光纤光栅的发展,从低损耗光纤的拉制成功、光纤光敏性的发现以及光栅制作技术的发展角度分析,可将其分为3个阶段:初始阶段、发展阶段和成熟阶段。而每一阶段发生的标志性事件,则突出记录了光纤光栅的发展历程。...查看详细>>

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  • 1.2.1 初始阶段

    1978—1989年为光纤光栅的初始阶段,其时间跨度约为12年。该阶段的特点是首先发现了光纤光敏性现象,进而发明了光栅写制技术,其中有两个重大标志性事件。1)发现光致折变现象1978年,K.O.Hill...查看详细>>

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  • 1.2.2 发展阶段

    1990—2004年为光纤光栅的发展阶段,其时间跨度约为15年。在紫外侧写技术发明之后,世界各国对光纤光栅及其应用的研究迅速开展起来。该阶段的特点是成栅模型、分析理论、写制方法及复用技术等交替出现,形成...查看详细>>

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  • 1.2.3 成熟阶段

    从2005年开始,光纤光栅进入成熟阶段。该阶段至今时间跨度仅有10年,但其发展速度令人振奋。该阶段的特点是一些传统的成栅技术日趋成熟,其非均匀、组合或复合成栅技术及其应用日益广泛,成栅新方法和新技术亦在...查看详细>>

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  • 1.3 光纤光栅分类及特点

    FG是光纤导波介质中物理结构呈周期性分布的一种新型光子器件。根据物理机制的不同,可分为结构性改变的蚀刻光栅和折射率调制的相位光栅两大类。前者在成栅过程中使光纤的结构出现明显的物理形变(如刻槽、刻痕、涂敷...查看详细>>

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  • 1.3.1 根据折射率变化起因分类

    根据引起折射率变化的起因不同,即FG成栅机制与光敏机理的差异,从激光能量密度、曝光时间、热稳定性、传输损耗、材料构成、掺杂浓度等因素考虑,可分为Ⅰ型、Ⅱ型和Ⅲ型光纤光栅。这种分类方式注重FG写制的原因,...查看详细>>

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  • 1.3.2 根据折射率变化结果分类

    根据折射率的变化导致结构的差异,即FG空间周期分布及折射率调制深度分布是否均匀,作者于2000年将其分为均匀光纤光栅和非均匀光纤光栅两大基本类型,并根据栅格周期长短、折射率调制深度不同这两个重要因素,给...查看详细>>

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  • 1.4.1 新型光纤光栅概念

    FG是20世纪70年代末出现的一种光子器件,发展至今在研究及应用方面取得了巨大成就,但发展相对成熟且应用较为广泛的当属均匀光纤光栅,如FBG,LPFG,TFG等。近些年来,随着光纤拉制技术的成熟和激光微...查看详细>>

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