2.3.3 外场作用写制技术
外场作用写制技术是指在光纤曝光的同时对其施加外场作用(如应力致拉伸或压缩、压力致形变或弯曲、力矩致扭曲或缠绕、温度致膨胀或收缩等),实现对纤芯或包层折射率分布的控制。该技术适用于各种类型的光纤(如单模光纤、多模光纤、锥形光纤、微结构光纤等),可用于写制双波长、多波长均匀光纤光栅以及啁啾型、螺旋型等非均匀光纤光栅,但外场的施加方式与强弱分布须精确调控。
1) 预应变模板写制技术
该技术通过控制光纤轴向拉伸或侧向弯曲产生的预应变以及相位模板的变速扫描,实现对纤芯或包层折射率分布的包络调控。图2-10为弯曲光纤与相位掩模板的几何关系及利用该技术写制的 ...... (共446字) [阅读本文]>>