腐蚀拉伸写制技术是指采用化学腐蚀的方法对光纤进行处理，使其产生具有周期性的凹陷或形变，从而改变光纤的折射率分布并在应力作用下形成光栅。通过控制光纤腐蚀时间和区域、对光纤轴向施加不同的应力作用，可以调控光栅的结构、机械强度和敏感特性。
1) 光刻腐蚀成栅技术
该技术要点为： 首先，利用CO2激光或者飞秒激光对光纤涂覆层进行横向扫描刻制，使其形成间距相等的仅至包层表面的划痕;然后将具有划痕的光纤部分浸入化学腐蚀溶液(如HF 等)进行腐蚀;进而，控制腐蚀时间使光纤腐蚀部分形成较平滑的周期性微锥区域;最后，对腐蚀后的光纤施加轴向应力形成光栅。图2-15为作者等利用 ...... （共477字） [阅读本文]>>
光纤光栅CMT是目前公认的能够比较全面、细致、全程地描述光波耦合行为过程的FG理论，它是定量研究FG衍射效率及光谱分布的得力工具，分析UFG时可得到解析解并能精确计算其光谱。该理论的优点是数学方程形式简洁，完
本章主要阐述新型光纤光栅的基本内容，为新型光纤光栅模型构建、理论分析和典型应用打下必要的知识基础。首先，简述光纤光栅的基本概念;然后，以标志性事件为引导，阐述光纤光栅发展的历史沿革;进而，介绍光纤光栅分
光纤光栅(FG)的物质基础是光纤。光纤即光导纤维，它是基于光的全内反射原理制成的一种光传导器件。自1966年高锟博士(K.C.Kao)提出光纤长距离传输光信号的可行性，而后1970年美国康宁公司成功拉制
光纤光栅的发展，从低损耗光纤的拉制成功、光纤光敏性的发现以及光栅制作技术的发展角度分析，可将其分为3个阶段：初始阶段、发展阶段和成熟阶段。而每一阶段发生的标志性事件，则突出记录了光纤光栅的发展历程。
1978—1989年为光纤光栅的初始阶段，其时间跨度约为12年。该阶段的特点是首先发现了光纤光敏性现象，进而发明了光栅写制技术，其中有两个重大标志性事件。1)发现光致折变现象1978年，K.O.Hill
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