刻槽压力写制技术是指利用精密机械加工技术刻制周期性的凹形槽对光纤进行侧向施压，从而产生应力型光纤光栅效应。该技术目前使用较少，一般仅限于实验室研究，采用机械感生法，可以机械诱导长周期光纤光栅(MI-LPFG)，如应力型LPFG， ULPFG等。可一旦解除了施加应力，光栅效应立刻消失。此外，对光纤反复施加压制，则有损于光纤的机械强度。
1) LPFG压力写制技术
该技术要点为： 首先，利用拉锥技术将单模光纤中的一部分拉制成光纤锥，其锥长为80mm，腰椎直径在90～125μm之间;然后，使用精密加工的锯齿凹形槽对光纤锥施加侧向压力，从而产生应力型LPFG效应。图2-17为压力写制锥形LPFG原理示意图 ...... （共548字） [阅读本文]>>
光纤光栅CMT是目前公认的能够比较全面、细致、全程地描述光波耦合行为过程的FG理论，它是定量研究FG衍射效率及光谱分布的得力工具，分析UFG时可得到解析解并能精确计算其光谱。该理论的优点是数学方程形式简洁，完
本章主要阐述新型光纤光栅的基本内容，为新型光纤光栅模型构建、理论分析和典型应用打下必要的知识基础。首先，简述光纤光栅的基本概念;然后，以标志性事件为引导，阐述光纤光栅发展的历史沿革;进而，介绍光纤光栅分
光纤光栅(FG)的物质基础是光纤。光纤即光导纤维，它是基于光的全内反射原理制成的一种光传导器件。自1966年高锟博士(K.C.Kao)提出光纤长距离传输光信号的可行性，而后1970年美国康宁公司成功拉制
光纤光栅的发展，从低损耗光纤的拉制成功、光纤光敏性的发现以及光栅制作技术的发展角度分析，可将其分为3个阶段：初始阶段、发展阶段和成熟阶段。而每一阶段发生的标志性事件，则突出记录了光纤光栅的发展历程。
1978—1989年为光纤光栅的初始阶段，其时间跨度约为12年。该阶段的特点是首先发现了光纤光敏性现象，进而发明了光栅写制技术，其中有两个重大标志性事件。1)发现光致折变现象1978年，K.O.Hill
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