在TN型或者VA型液晶显示器中，彩膜侧需要设置ITO共通电极，与阵列侧像素电极形成垂直电场。彩膜侧ITO薄膜厚度一般为1500 Å左右，而阵列侧ITO薄膜厚度一般在500 Å左右。同样是ITO薄膜，为何有如此差异?其实原因很简单。
彩膜侧主要是有机物膜层，其成膜温度较低，且耐高温能力差，温度一般在200 ℃左右，所以ITO溅射成膜只能使用低温成膜，形成非晶态ITO薄膜，其电阻率较大，故膜厚要做厚以降低方块电阻值，保证面内电压均一性。而阵列侧主要为无机材料，其耐热性能好，ITO成膜温度可接近400 ℃，可使得ITO晶化，电阻率会降低很多 ...... （共276字） [阅读本文]>>
液晶显示是基于液晶分子的双折射原理而发展起来的显示技术。液晶显示模式可以根据其光学特征分为常白模式和常黑模式，也可根据其驱动方式分为被动模式和主动模式，或者根据液晶的运动状态分为TN(TwistedNe
RGBW相对于RGB，对光有较高的透过效率，粗略估算如下：如图1所示，设像素面积为1，每个子像素面积为1/3，背光光照为1，R，G，B光照透过率均为1/3。已知光线透过率=像素面积×背光光照×光照透过率
电子显示领域(无论是数字的还是模拟的)使用的是CIE的基础——RGB三原色，通过三种颜色光的叠加进而产生更多种颜色。因此电子显示领域的色域空间实际是一个“加法模型”，不同颜色光叠加产生新色彩的同时也提高
液晶面板部分与液晶显示器有相当密切的联系，它的产量、优劣以及市场环境等多种因素都关系着液晶显示器自身的质量、价格和市场走向，因为一台液晶显示器其70%左右的成本都集中在了面板上。不仅液晶面板价格的走势直
RGBWUHD又被称为GreenUHD或GreenPlusUHD，它与传统的4K×2K面板技术比较如表1所示。表1液晶面板子像素排列、分辨率及子像素数量对比从表1中可以看出，传统的像素由R(红色)、G(
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