第34问 什么是Mask拼接曝光
Mask(光掩膜)类似于照相机的底片(如图1所示),可以多次在玻璃基板上重复相同的图案,复制比例为1∶1(如图2所示)。
图1 照片底片与照片的关系
图2 Mask与玻璃基板的关系
以8.5代线Mask来看,通过一次曝光形成完整面板图形,其纵向可以放置两张48英寸面板图形,横向只能放置一张59英寸面板图形(如图3所示)。如果所要制作的面板尺寸大于59英寸,则只能通过Mask拼接曝光的方式形成图形。
图3 Mask非拼接最大曝光面板尺寸
如图4所示左侧面板通过右侧Mask 4次曝光形成。拼接曝光设计时,阵列侧Mask需要在两个区块之间设置遮光带,设置原因是阵列侧光刻胶为正性光刻胶,在经过UV曝光后会被显影,其下方金 ...... (共391字) [阅读本文]>>