光刻工艺(光刻胶涂布—曝光—显影—剥离)是平板显示行业以及半导体行业的基础，实现了薄膜的图案化。光掩膜板类似于以前胶片相机的底片，是对光产生遮挡作用的一种工具(如图1所示)。它可以将其中包含的信息反复的呈现在基板上，非常适合于大规模生产。
图1 相机底片与光掩膜板原理图
光掩膜板制作工艺可以用图2直观地表达出来。它看起来与阵列光刻工艺很相似，但还有几点需要注意：
图2 光掩膜板制作过程
(1) 掩膜板基板一般采用高硬度、高透过率的石英玻璃。
(2) 遮光金属一般采用铬(Cr)。
(3) 曝光方式不同。光掩膜板曝光一般称为描画，目前有两种描画方式，即电子束描画和激光描画。 ...... （共809字） [阅读本文]>>
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