彩膜中的R、G、B、PS、OC常使用负性光刻胶，Rib常使用正性光刻胶。
颜色图形形成过程如图1所示。
图1 颜色图形形成过程示意图
正性光刻胶中大多采用重氮萘醌作为光敏剂，其中的酚醛树脂与NDQ不溶于碱性溶液，当被紫外线照射后，NQD转化为溶于碱性溶液(比如羟化四甲铵)的茚羧酸，因此可以通过光刻胶形成图案。
含有颜料的高光学密度的光刻胶薄膜除表层的光刻胶外不能充分曝光。如果使用正性光刻胶的话，曝光的部分被显影，那么只有表层的光刻胶被显影掉，无法全部除去，因此会有色阻残留发生。而使用负性光刻胶的话，不曝光的部分被显影，曝光的部分保留，由于曝光部分的表层光刻胶被 ...... （共349字） [阅读本文]>>
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