雕塑薄膜的概念最早由Young和Kowal于1959年提出[5]，但是，受到当时探测条件和工艺水平的限制，他们没有探测到薄膜的双折射特性。在以后的三十多年中，双折射薄膜的研究没有获得实质性的进展。直到1995年，Robbie小组改进并发展了Young的设计思想和方法，制备了结构稳定的MgF2 雕塑薄膜[6]，并用扫描电镜观察到薄膜的螺旋结构。这一发现使雕塑薄膜受到薄膜界广泛关注。随后，雕塑薄膜的设计和制备都得到快速的发展，成为光学薄膜的研究热点之一。
1) 雕塑薄膜的制备方法
雕塑薄膜的制备主要依赖于斜入射沉积(glancing angle deposition， GLAD)技术。使用物理气相沉积时，首先将基底倾斜，使基底表面法 ...... （共1447字） [阅读本文]>>
光学薄膜及应用光学薄膜设计的理论基础是麦克斯韦方程组，从理论观点来说，研究薄膜系统的光学特性就是研究平面电磁波通过分层介质的传播，因此处理薄膜问题的最有效方法是解麦克斯韦方程组[1]：·D=4πρ(1-1-1)×E
光学薄膜及应用1) 共振吸收如果把原子分子体系看做是谐振子体系，这个体系在电场E=E0e-iω t的作用下，满足强迫振动方程：m0+m0γ+Kx=-eE0e-iω t(1-1-21)式中，m0为电子质量，e为电子的
光学薄膜及应用从光的电磁理论出发，光吸收主要是由介电常数中的虚部引起的。这时，介质的折射率也变为复数。即＝n-ik(1-1-37)式中，为复折射率;n为折射率;k为消光系数。由于消光系数的存在，光在通过电介质时，将
.jpg)
光学薄膜及应用1.1.4.1 表面统计参量光学材料表面微粗糙的存在，是材料本身及加工过程带来的必然结果。设z(x)是真实表面x处偏离平均平面的高度函数，由于它的高低起伏被认为是一个静态随机过程，为了更好地了解表面的
光学薄膜及应用实际的光学薄膜，由于在沉积过程中工艺条件的变化，在薄膜生长方向上折射率会发生相应的变化，这种现象叫做薄膜的不均匀性，而折射率具有确定的不均匀性的薄膜叫做非均匀膜或渐变折射率薄膜。1.1.5.1 不均匀
上一篇