扫描电镜的研究结果表明，在头发中二硫键的还原过程中，头发产生径向溶胀。溶胀和还原剂的渗透存在一定的关系(图5-5-6)。pH和温度对溶胀有影响;在27℃，使0.55mol/L浓度的巯基乙酸单乙醇胺作还原剂，pH 8时完全渗透所需时间为100 min，而pH 10时完全渗透所需时间为10 min。同样地完全渗透时溶胀也由10%提高至100%。
含硫醇的化合物，如巯基甘油和巯基乙二醇酰胺对头发的渗透速度比巯基乙酸盐快得多(pH≤8)，但它们不会引起较大的溶胀。由于这些化合物巯基的电离pKa值约为10，pH>8时溶胀效应会大大地增加。这是由于pH由8提高至10时，活性硫醇盐离子RS-增至原来的100倍。
烫发过程的溶胀不只限于还原阶 ...... （共1019字） [阅读本文]>>
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