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1.2.5 等离子体增强化学气相沉积和电子回旋共振化学气相沉积

分类：薄膜太阳能电池446字

除了加速离子，等离子体技术也可以提供外加能量，增加表面迁移率，用低温沉积方法实现高质量的外延生长。

通过低能量的等离子体增强化学气相沉积(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition，PECVD)，含有低能量离子的高电流等离子体放电可以产生较高的沉积速率，并保证晶片表面没有损伤[48]。这种技术的主要应用是为先进的金属氧化物半导体(Metal Oxide Semiconductor， MOS)器件生长具有成分梯度的SiGe弛豫缓冲层(relaxed buffer layer)，这样的PECVD技术原则上也可以制备外延晶体硅薄膜太阳能电池。

电子回旋共振化学气相沉积(Electron Cyclotron Resonance Chemical Vapor Deposition，ECR-CVD)同样可以提供高浓度的等离子体，以大幅 ......     （共446字）    [阅读本文]>>

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