1.5.1.3 分批式外延反应腔
虽然连续化学气相沉积ConCVD和对流辅助化学气相沉积CoCVD已经在大规模生产的可行性上取得了很大的进展,但是这两种概念的可靠性和安全性仍然有待论证。微电子领域发展了分批式外延反应腔(batch type epitaxial reactor),用SiH4作为Si前驱物,发展了200mm和300mm尺寸的晶片,生产速率在100晶片/h量级,相当于5m2/h的生产速率。就像功率电子器件(power electronics)的制备那样,大规模生产外延晶体硅薄膜太阳能电池也可以运用分批式外延反应腔,但是还需要改进多晶硅沉积工艺,形成较厚的多晶硅层(polycrystalline layer),略微提高温度100~200℃,将均匀度要求降低到10%,这样的分批式外延反应腔可以实现要求的目标 ...... (共1192字) [阅读本文]>>