2.3.5 陶瓷衬底上的区熔再结晶
之前章节的讨论表明,即使用单晶硅或多晶硅硅片作为模型衬底,区熔再结晶ZMR生长Si薄膜的质量也依赖于衬底的数个参数。如果用非理想的陶瓷衬底,ZMR更加会受到陶瓷衬底较差特性参数的影响。区别于Si模型衬底,陶瓷衬底的以下几个方面材料固有特性对ZMR工艺制备异质衬底晶体硅薄膜太阳能电池有重要意义:
● 表面粗糙度:Si衬底可以通过简单的各向同性蚀刻(isotropic etching)达到显微量级的平滑,蚀刻溶液可以是CP133(Chemical Polish 133),由HF(50%)、HNO3和CH3COOH按1∶3∶3的比例制备。但是,陶瓷衬底表面通常不会被化学蚀刻(chemical etching)改变,会保持烧结后达到的状态。陶瓷衬底的表面粗糙度依赖于衬 ...... (共2082字) [阅读本文]>>