2.3.4.2 工艺控制
我们已经详细地讨论了区熔再结晶ZMR工艺中温度梯度、生长形貌和缺陷密度之间的关系。根据这些讨论,结晶面温度梯度的精确控制对生长高质量ZMR薄膜非常重要。
虽然不容易直接测量温度梯度的数值,但是利用熔化Si的反射率变化,可以间接地测量温度梯度。Robinson和Miaoulis运用数值模拟计算了结晶面温度梯度和熔化区域宽度的关系[86]:熔化区域越小,温度梯度越低。这样的结论与对结晶面形貌的实验观测吻合[87, 104]。所以,图像分析可以探测熔化区域的宽度,从而实现ZMR工艺的控制。
Wong和Miaoulis首先报道了用这种方法控制Ga薄膜的再结晶[105]。他们的系统实现了对结晶面位置和结晶面图形二个参 ...... (共1282字) [阅读本文]>>