2.4.2.1 生长速率
常压化学气相沉积APCVD的前驱物是SiHCl3-H2系统,对应的生长速率,即沉积速率,依赖于沉积温度、气相成分和总气压,这很容易得到实验的证实(demonstration)。为了确定最优化的工作点和最优化的反应腔几何设计,对沉积反应建立分析模型不可避免。关于在横向常压反应腔中高温分解SiHCl3的Si沉积工艺,Habuka建立了理论生长模型[111],并且通过实验证实。形成Si沉积的化学反应具有两个反应步骤:
● SiHCl3分子碰撞衬底表面后被化学吸附(chemisorption),产生SiCl2和挥发性的HCl;
● SiCl2分子与H2反应,产生HCl和形成晶体的固相Si。
在简化的形式中,总体的化学反应可以描述为:
SiHCl3 + H2Si + 3HCl
(2.1)
图2.20 根据常压 ...... (共1040字) [阅读本文]>>