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2.4.2.1 生长速率

分类:薄膜太阳能电池1040字

常压化学气相沉积APCVD的前驱物是SiHCl3-H2系统,对应的生长速率,即沉积速率,依赖于沉积温度、气相成分和总气压,这很容易得到实验的证实(demonstration)。为了确定最优化的工作点和最优化的反应腔几何设计,对沉积反应建立分析模型不可避免。关于在横向常压反应腔中高温分解SiHCl3的Si沉积工艺,Habuka建立了理论生长模型[111],并且通过实验证实。形成Si沉积的化学反应具有两个反应步骤:

● SiHCl3分子碰撞衬底表面后被化学吸附(chemisorption),产生SiCl2和挥发性的HCl;

● SiCl2分子与H2反应,产生HCl和形成晶体的固相Si。

在简化的形式中,总体的化学反应可以描述为:

SiHCl3 + H2Si + 3HCl

(2.1)

图2.20 根据常压 ......     (共1040字)    [阅读本文]>>

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