2.4.2 常压化学气相沉积的特性
论述常压化学气相沉积APCVD的Si生长工艺是一个复杂的问题,需要将气体输运现象和化学反应在衬底表面和气相进行耦合。一个描述整个沉积工艺的总体模型要求解数个耦合的偏微分方程。因为这个问题的巨大复杂性,很多研究人员忽略了气相流体力学,将分析局限在一个简化的模型中。而改进模型和模拟工具的开发仍然是目前研究的论题[108~110]。
异质衬底晶体硅薄膜太阳能电池的Si沉积有两个关键特性参数影响沉积工艺的生产速率和成本:生长速率和化学产率。需要对这两个参数做进一步的讨论 ...... (共233字) [阅读本文]>>