一、形貌衬度
表面形貌衬度是指利用对样品表面形貌特别敏感的信号成像而得到的衬度。二次电子和背散射电子均可以提供形貌衬度,这是扫描电镜中最常用的图像衬度。
1.二次电子像的形貌衬度
二次电子主要来自表面下<10nm的浅层区域,它的强度与样品微区的形貌相关,而与样品的原子序数没有明显的依赖关系。二次电子像的分辨率高,适于显示形貌细节。在扫描电镜中,二次电子产率δ随微区表面倾斜程度而变化。图4-1为微区形貌的三种特例,样品相对入射电子的倾斜逐渐加大,即电子束与样品表面法线的夹角θ分别为0°、45°和60°,当入射电子束强度Eo确定时,通过探测器检测出三个部位的二次电子产率为 ...... (共2066字) [阅读本文]>>