光学薄膜的力学性质主要包括应力、附着力、硬度、力学强度及其相关的力学参数。其中，应力是光学薄膜重要的力学性质。它的存在，不仅会造成光学薄膜起皱、破裂和脱落等直接破坏，还会通过膜层与膜层之间、膜层与基底之间的相互作用，影响薄膜和光学系统的光学性质以及薄膜的抗激光强度。是光学薄膜乃至所有薄膜科学中最重要的研究课题之一。这里主要讨论与应力相关的力学问题。
薄膜是厚度介于单原子层至数十微米之间的固体薄层，表面能态与体内能态的差异造成了薄膜与大块材料之间在结构和性能上的不同。所以，对于金属、陶瓷、半导体等无机物薄膜及有机物薄膜来说，无论是 ...... （共480字） [阅读本文]>>
光学薄膜及应用光学薄膜设计的理论基础是麦克斯韦方程组，从理论观点来说，研究薄膜系统的光学特性就是研究平面电磁波通过分层介质的传播，因此处理薄膜问题的最有效方法是解麦克斯韦方程组[1]：·D=4πρ(1-1-1)×E
光学薄膜及应用1) 共振吸收如果把原子分子体系看做是谐振子体系，这个体系在电场E=E0e-iω t的作用下，满足强迫振动方程：m0+m0γ+Kx=-eE0e-iω t(1-1-21)式中，m0为电子质量，e为电子的
光学薄膜及应用从光的电磁理论出发，光吸收主要是由介电常数中的虚部引起的。这时，介质的折射率也变为复数。即＝n-ik(1-1-37)式中，为复折射率;n为折射率;k为消光系数。由于消光系数的存在，光在通过电介质时，将
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光学薄膜及应用1.1.4.1 表面统计参量光学材料表面微粗糙的存在，是材料本身及加工过程带来的必然结果。设z(x)是真实表面x处偏离平均平面的高度函数，由于它的高低起伏被认为是一个静态随机过程，为了更好地了解表面的
光学薄膜及应用实际的光学薄膜，由于在沉积过程中工艺条件的变化，在薄膜生长方向上折射率会发生相应的变化，这种现象叫做薄膜的不均匀性，而折射率具有确定的不均匀性的薄膜叫做非均匀膜或渐变折射率薄膜。1.1.5.1 不均匀
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