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参考文献

分类：光学薄膜及应用2794字

[1] Teixeira V. Mechanical in PVD coating due to the presence of residual stress [J]. Thin solid films， 2001(392)：2796-281.

[2] 竹内洋一郎.热应力[M].北京：科学出版社，1977.

[3] Laugier M. An analysis of the cantilevered plate method of thin film intrinsic stress determination [J]. Thin solid films， 1980，66(2)：L7-L10.

[4] Hoffman. R.W. Physics of nonmetallic thin films In： Dupuy CHS， Cachard Aeds， NATO Adv Study Inst， 1976， B14：273.

[5] 邹春梅.氧化物薄膜应力的X射线衍射表征与研究[D].电子科技大学硕士论文，2007.

[6] Murbech HF， Wilman H [J]. Proc. Phys. Soc. 1953， B66： 911.

[7] Chopra KL. Influence of electric field on the growth of thin metal films [J]. J. Appl. Phys.， 1966，37：2249-2254.

[8] Bradhurst DH， Leach Llew ......     （共2794字）    [阅读本文]>>

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