在一定条件下薄膜的应力可以导致薄膜局部破裂，薄膜应力破坏表现为以下几种形式：表面裂纹、表面起皱、局部破坑，膜层脱落。这几个现象有时是独立存在的，更多地表现为薄膜应力破坏的几个相关联的发展过程。在1.2.5.2节中，已经描述过HfO2/SiO2多层反射膜，在退火温度达到400 ℃时的龟裂现象。这里集中讨论这方面的问题。
如果薄膜膜层结合力不够强，薄膜的内应力使得薄膜在结合力薄弱的区域产生裂纹。图1-2-52为laF3/MgF2反射膜的裂纹形态。它主要由MgF2薄膜比较大的内应力和比较差的力学强度引起的，裂纹有明显的结构或取向。
图1-2-52 光学显微镜下LaF3/MgF2多层反射薄膜表面裂纹
图1-2-53 光 ...... （共1003字） [阅读本文]>>
光学薄膜及应用光学薄膜设计的理论基础是麦克斯韦方程组，从理论观点来说，研究薄膜系统的光学特性就是研究平面电磁波通过分层介质的传播，因此处理薄膜问题的最有效方法是解麦克斯韦方程组[1]：·D=4πρ(1-1-1)×E
光学薄膜及应用1) 共振吸收如果把原子分子体系看做是谐振子体系，这个体系在电场E=E0e-iω t的作用下，满足强迫振动方程：m0+m0γ+Kx=-eE0e-iω t(1-1-21)式中，m0为电子质量，e为电子的
光学薄膜及应用从光的电磁理论出发，光吸收主要是由介电常数中的虚部引起的。这时，介质的折射率也变为复数。即＝n-ik(1-1-37)式中，为复折射率;n为折射率;k为消光系数。由于消光系数的存在，光在通过电介质时，将
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光学薄膜及应用1.1.4.1 表面统计参量光学材料表面微粗糙的存在，是材料本身及加工过程带来的必然结果。设z(x)是真实表面x处偏离平均平面的高度函数，由于它的高低起伏被认为是一个静态随机过程，为了更好地了解表面的
光学薄膜及应用实际的光学薄膜，由于在沉积过程中工艺条件的变化，在薄膜生长方向上折射率会发生相应的变化，这种现象叫做薄膜的不均匀性，而折射率具有确定的不均匀性的薄膜叫做非均匀膜或渐变折射率薄膜。1.1.5.1 不均匀
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