一般光栅具有色分辨衍射的功能，但X射线裸光栅在入射角不大的条件下，其衍射效率是非常低的。把多层膜技术和光栅技术结合起来，则可以大大提高衍射效率。多层膜软X射线衍射元件正是建立在这个基础上的。根据实际可能，采用矩形光栅，设计槽深为15.5 nm，线空比1∶1，光栅周期为0.88 μm。多层膜采用21层Mo/Si材料对， 周期厚度为12.76 nm，对应的中心波长为23.4 nm。该光栅选用全息曝光，离子束刻蚀。多层膜采用离子束溅射技术沉积。该衍射元件的小角X衍射谱和同步辐射实验室测量装置直接测量分别由图2-2-60和图2-2-61给出。在小角X衍射的测量中首先通过θ-2θ测量得到多层膜的主衍射峰，然后在2 ...... （共540字） [阅读本文]>>
光学薄膜及应用光学薄膜设计的理论基础是麦克斯韦方程组，从理论观点来说，研究薄膜系统的光学特性就是研究平面电磁波通过分层介质的传播，因此处理薄膜问题的最有效方法是解麦克斯韦方程组[1]：·D=4πρ(1-1-1)×E
光学薄膜及应用1) 共振吸收如果把原子分子体系看做是谐振子体系，这个体系在电场E=E0e-iω t的作用下，满足强迫振动方程：m0+m0γ+Kx=-eE0e-iω t(1-1-21)式中，m0为电子质量，e为电子的
光学薄膜及应用从光的电磁理论出发，光吸收主要是由介电常数中的虚部引起的。这时，介质的折射率也变为复数。即＝n-ik(1-1-37)式中，为复折射率;n为折射率;k为消光系数。由于消光系数的存在，光在通过电介质时，将
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光学薄膜及应用1.1.4.1 表面统计参量光学材料表面微粗糙的存在，是材料本身及加工过程带来的必然结果。设z(x)是真实表面x处偏离平均平面的高度函数，由于它的高低起伏被认为是一个静态随机过程，为了更好地了解表面的
光学薄膜及应用实际的光学薄膜，由于在沉积过程中工艺条件的变化，在薄膜生长方向上折射率会发生相应的变化，这种现象叫做薄膜的不均匀性，而折射率具有确定的不均匀性的薄膜叫做非均匀膜或渐变折射率薄膜。1.1.5.1 不均匀
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