用严格矢量理论可以对多层介质膜光栅的衍射特性进行数值计算和分析。研究衍射效率随浮雕光栅的槽深、占宽比、剩余厚度、入射角度、波长、梯形光栅的角度、分层数目、谐波数目以及多层介质膜折射率和厚度误差等因素的变化关系。
2.3.2.1 顶层为HfO2的矩形多层介质膜光栅
多层膜光栅的顶层材料可以是高折射率材料HfO2，也可以是低折射率材料SiO2。首先利用严格耦合波理论对顶层为HfO2的波矩形MDG的衍射特性进行分析。数值计算中取矩形光栅的使用波长为1 053 nm，入射角度为51.2°，光栅的线密度为1 480线/mm，光的偏振态为TE模式。
1) 不同占宽比条件下衍射效率随槽深和剩余厚度的变化关系
图2-3-5中 ...... （共3562字） [阅读本文]>>
光学薄膜及应用光学薄膜设计的理论基础是麦克斯韦方程组，从理论观点来说，研究薄膜系统的光学特性就是研究平面电磁波通过分层介质的传播，因此处理薄膜问题的最有效方法是解麦克斯韦方程组[1]：·D=4πρ(1-1-1)×E
光学薄膜及应用1) 共振吸收如果把原子分子体系看做是谐振子体系，这个体系在电场E=E0e-iω t的作用下，满足强迫振动方程：m0+m0γ+Kx=-eE0e-iω t(1-1-21)式中，m0为电子质量，e为电子的
光学薄膜及应用从光的电磁理论出发，光吸收主要是由介电常数中的虚部引起的。这时，介质的折射率也变为复数。即＝n-ik(1-1-37)式中，为复折射率;n为折射率;k为消光系数。由于消光系数的存在，光在通过电介质时，将
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光学薄膜及应用1.1.4.1 表面统计参量光学材料表面微粗糙的存在，是材料本身及加工过程带来的必然结果。设z(x)是真实表面x处偏离平均平面的高度函数，由于它的高低起伏被认为是一个静态随机过程，为了更好地了解表面的
光学薄膜及应用实际的光学薄膜，由于在沉积过程中工艺条件的变化，在薄膜生长方向上折射率会发生相应的变化，这种现象叫做薄膜的不均匀性，而折射率具有确定的不均匀性的薄膜叫做非均匀膜或渐变折射率薄膜。1.1.5.1 不均匀
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