2.3.3.1 优化思路以及方法
用于脉冲压缩系统中的MDG需要提供尽可能高的衍射效率和激光破坏阈值。为满足压缩光栅这种特殊的性能要求和复杂的制备工艺流程，MDG的设计主要包括3个方面的内容：
第一，用于制作MDG的多层介质膜(简称光栅膜)在使用波长处能提供接近100%的反射率，而且在其顶层刻蚀光栅后能在使用波长处提供较高的-1级反射率。
第二，在光栅膜表面制作光刻胶光栅掩模时，要求很少的写入光从光栅膜表面反射回光刻胶，降低驻波效应的影响，从而保证掩模的质量。
第三，脉冲压缩光栅在使用过程中直接和高能量的短脉冲相互作用，电场增强可能成为光栅破坏的主要因素，因此，要尽可 ...... （共4393字） [阅读本文]>>
光学薄膜及应用光学薄膜设计的理论基础是麦克斯韦方程组，从理论观点来说，研究薄膜系统的光学特性就是研究平面电磁波通过分层介质的传播，因此处理薄膜问题的最有效方法是解麦克斯韦方程组[1]：·D=4πρ(1-1-1)×E
光学薄膜及应用1) 共振吸收如果把原子分子体系看做是谐振子体系，这个体系在电场E=E0e-iω t的作用下，满足强迫振动方程：m0+m0γ+Kx=-eE0e-iω t(1-1-21)式中，m0为电子质量，e为电子的
光学薄膜及应用从光的电磁理论出发，光吸收主要是由介电常数中的虚部引起的。这时，介质的折射率也变为复数。即＝n-ik(1-1-37)式中，为复折射率;n为折射率;k为消光系数。由于消光系数的存在，光在通过电介质时，将
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光学薄膜及应用1.1.4.1 表面统计参量光学材料表面微粗糙的存在，是材料本身及加工过程带来的必然结果。设z(x)是真实表面x处偏离平均平面的高度函数，由于它的高低起伏被认为是一个静态随机过程，为了更好地了解表面的
光学薄膜及应用实际的光学薄膜，由于在沉积过程中工艺条件的变化，在薄膜生长方向上折射率会发生相应的变化，这种现象叫做薄膜的不均匀性，而折射率具有确定的不均匀性的薄膜叫做非均匀膜或渐变折射率薄膜。1.1.5.1 不均匀
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