雕塑薄膜是生长方向与结构都可以控制的一类薄膜。制备雕塑薄膜很重要的一项技术就是斜入射沉积技术(glancing angle deposition， GLAD)，除了倾斜沉积以外，还包括基底予结构技术，场控制技术，光刻技术，嵌合复制技术，化学蚀刻技术等各种可以控制薄膜生长特性和结构特性的技术。
斜入射沉积技术的核心是将基片倾斜一定的角度，控制气流入射方向与基底表面法线方向的夹角，再辅以不同的基底旋转方式，这样就可以得到不同于传统结构、各向异性结构的薄膜，从而使薄膜的性能发生根本变化。对于斜入射沉积制备的雕塑薄膜，当光线垂直入射时，由于结构的各向异性，普通的单色光会分解成两 ...... （共846字） [阅读本文]>>
光学薄膜及应用光学薄膜设计的理论基础是麦克斯韦方程组，从理论观点来说，研究薄膜系统的光学特性就是研究平面电磁波通过分层介质的传播，因此处理薄膜问题的最有效方法是解麦克斯韦方程组[1]：·D=4πρ(1-1-1)×E
光学薄膜及应用1) 共振吸收如果把原子分子体系看做是谐振子体系，这个体系在电场E=E0e-iω t的作用下，满足强迫振动方程：m0+m0γ+Kx=-eE0e-iω t(1-1-21)式中，m0为电子质量，e为电子的
光学薄膜及应用从光的电磁理论出发，光吸收主要是由介电常数中的虚部引起的。这时，介质的折射率也变为复数。即＝n-ik(1-1-37)式中，为复折射率;n为折射率;k为消光系数。由于消光系数的存在，光在通过电介质时，将
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光学薄膜及应用1.1.4.1 表面统计参量光学材料表面微粗糙的存在，是材料本身及加工过程带来的必然结果。设z(x)是真实表面x处偏离平均平面的高度函数，由于它的高低起伏被认为是一个静态随机过程，为了更好地了解表面的
光学薄膜及应用实际的光学薄膜，由于在沉积过程中工艺条件的变化，在薄膜生长方向上折射率会发生相应的变化，这种现象叫做薄膜的不均匀性，而折射率具有确定的不均匀性的薄膜叫做非均匀膜或渐变折射率薄膜。1.1.5.1 不均匀
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