雕塑薄膜的生长过程与一般薄膜的生长过程有相似之处。但是，由于斜入射沉积的阴影效应，又有其自身的特点。
阴影效应是斜入射薄膜结构不同于一般薄膜结构的一个最重要的原因。如图2-4-1所示，当蒸发束流倾斜入射时，随着薄膜的生长，处于生长点的原子团簇会遮挡其他相近位置的薄膜的生长。另一方面，一般斜入射沉积都是在室温下进行的，沉积原子的扩散迁移速率非常低，原子不能在薄膜内自由扩散。这样，那些被遮挡的区域就不会再有原子去填充，形成一定的空洞结构。未被遮挡的区域由于能够接收到更多的沉积原子而形成倾斜的柱状结构。一般来说，倾斜柱状结构是沿着蒸发束流的 ...... （共1359字） [阅读本文]>>
光学薄膜及应用光学薄膜设计的理论基础是麦克斯韦方程组，从理论观点来说，研究薄膜系统的光学特性就是研究平面电磁波通过分层介质的传播，因此处理薄膜问题的最有效方法是解麦克斯韦方程组[1]：·D=4πρ(1-1-1)×E
光学薄膜及应用1) 共振吸收如果把原子分子体系看做是谐振子体系，这个体系在电场E=E0e-iω t的作用下，满足强迫振动方程：m0+m0γ+Kx=-eE0e-iω t(1-1-21)式中，m0为电子质量，e为电子的
光学薄膜及应用从光的电磁理论出发，光吸收主要是由介电常数中的虚部引起的。这时，介质的折射率也变为复数。即＝n-ik(1-1-37)式中，为复折射率;n为折射率;k为消光系数。由于消光系数的存在，光在通过电介质时，将
.jpg)
光学薄膜及应用1.1.4.1 表面统计参量光学材料表面微粗糙的存在，是材料本身及加工过程带来的必然结果。设z(x)是真实表面x处偏离平均平面的高度函数，由于它的高低起伏被认为是一个静态随机过程，为了更好地了解表面的
光学薄膜及应用实际的光学薄膜，由于在沉积过程中工艺条件的变化，在薄膜生长方向上折射率会发生相应的变化，这种现象叫做薄膜的不均匀性，而折射率具有确定的不均匀性的薄膜叫做非均匀膜或渐变折射率薄膜。1.1.5.1 不均匀
上一篇