光学薄膜的线性吸收是与光学材料的共振吸收密切相关的，这一点在本书的第一部分已经讨论过。这里从薄膜的吸收破坏角度再做进一步的说明。从光学材料的色散关系出发，不论入射光束的频率是多少，光学薄膜总是存在一定的吸收。在激光强度不是很高时，薄膜的吸收系数由材料的本征特性和作用激光的频率共同决定，而与光强无关，但当薄膜的温升足够高的情况下，其吸收系数和热物参数会随温度变化。
光学薄膜的吸收取决于薄膜消光系数的大小，其吸收系数为α=2πk/λ。
k2＝(-ε1)/2
(3-3-3)
式中，ε1， ε2为光学薄膜的介电常数，λ为激光波长。消光系数的大小，取决于薄膜中介电常数的虚部ε2的 ...... （共7968字） [阅读本文]>>
光学薄膜及应用光学薄膜设计的理论基础是麦克斯韦方程组，从理论观点来说，研究薄膜系统的光学特性就是研究平面电磁波通过分层介质的传播，因此处理薄膜问题的最有效方法是解麦克斯韦方程组[1]：·D=4πρ(1-1-1)×E
光学薄膜及应用1) 共振吸收如果把原子分子体系看做是谐振子体系，这个体系在电场E=E0e-iω t的作用下，满足强迫振动方程：m0+m0γ+Kx=-eE0e-iω t(1-1-21)式中，m0为电子质量，e为电子的
光学薄膜及应用从光的电磁理论出发，光吸收主要是由介电常数中的虚部引起的。这时，介质的折射率也变为复数。即＝n-ik(1-1-37)式中，为复折射率;n为折射率;k为消光系数。由于消光系数的存在，光在通过电介质时，将
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光学薄膜及应用1.1.4.1 表面统计参量光学材料表面微粗糙的存在，是材料本身及加工过程带来的必然结果。设z(x)是真实表面x处偏离平均平面的高度函数，由于它的高低起伏被认为是一个静态随机过程，为了更好地了解表面的
光学薄膜及应用实际的光学薄膜，由于在沉积过程中工艺条件的变化，在薄膜生长方向上折射率会发生相应的变化，这种现象叫做薄膜的不均匀性，而折射率具有确定的不均匀性的薄膜叫做非均匀膜或渐变折射率薄膜。1.1.5.1 不均匀
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