2.1.2.1 高折射率材料的消光系数
理论上，对于的规整膜系，多层膜的反射率会随着薄膜层数的增加而无限制地接近100%，而实际上由于膜材料本身的吸收、散射等影响，多层膜的实测反射率要比理论值小很多。在这种条件下，高反射膜的反射率，在一定周期数下，会达到饱和甚至下降。在紫外区，由于高折射率薄膜的消光系数随波长变短而迅速增大，成为影响薄膜反射率提高的重要因素。图2-1-4给出高折射率材料消光系数为0.6、折射率为2.0、低折射率材料消光系数为0、折射率为1.46时，分别在0°和45°入射条件下，规整膜堆(HL)nH的反射率随(HL)周期数n变化的规律。当考虑高折射率材料存在较大的消光系 ...... （共2682字） [阅读本文]>>
光学薄膜及应用光学薄膜设计的理论基础是麦克斯韦方程组，从理论观点来说，研究薄膜系统的光学特性就是研究平面电磁波通过分层介质的传播，因此处理薄膜问题的最有效方法是解麦克斯韦方程组[1]：·D=4πρ(1-1-1)×E
光学薄膜及应用1) 共振吸收如果把原子分子体系看做是谐振子体系，这个体系在电场E=E0e-iω t的作用下，满足强迫振动方程：m0+m0γ+Kx=-eE0e-iω t(1-1-21)式中，m0为电子质量，e为电子的
光学薄膜及应用从光的电磁理论出发，光吸收主要是由介电常数中的虚部引起的。这时，介质的折射率也变为复数。即＝n-ik(1-1-37)式中，为复折射率;n为折射率;k为消光系数。由于消光系数的存在，光在通过电介质时，将
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光学薄膜及应用1.1.4.1 表面统计参量光学材料表面微粗糙的存在，是材料本身及加工过程带来的必然结果。设z(x)是真实表面x处偏离平均平面的高度函数，由于它的高低起伏被认为是一个静态随机过程，为了更好地了解表面的
光学薄膜及应用实际的光学薄膜，由于在沉积过程中工艺条件的变化，在薄膜生长方向上折射率会发生相应的变化，这种现象叫做薄膜的不均匀性，而折射率具有确定的不均匀性的薄膜叫做非均匀膜或渐变折射率薄膜。1.1.5.1 不均匀
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