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2.1.3.1 355 nm高强度激光薄膜
355 nm是1 064 nm激光的三倍频波长，在强激光以及其他领域中，有着重要应用。用于这类激光的光学薄膜，不仅要求具有优良的光学性能，更要求较高的抗激光强度。相对于基频薄膜，三倍频薄膜的破坏问题之所以更突出，主要有两个原因：①随着波长的变短，一般薄膜材料的消光系数都会迅速增大，特别是高折射率材料更为突出。此外，导致薄膜破坏的微观缺陷等因素也会更多、更严重，一些对基频光吸收系数很低的杂质材料，在三倍频条件下会成为强吸收杂质。三倍频薄膜破坏阈值的下降，可能大于波长之间的比例关系。②在实际的激光系统中，三倍频激光的倍频效率 ...... （共24746字） [阅读本文]>>
光学薄膜及应用光学薄膜设计的理论基础是麦克斯韦方程组，从理论观点来说，研究薄膜系统的光学特性就是研究平面电磁波通过分层介质的传播，因此处理薄膜问题的最有效方法是解麦克斯韦方程组[1]：·D=4πρ(1-1-1)×E
光学薄膜及应用1) 共振吸收如果把原子分子体系看做是谐振子体系，这个体系在电场E=E0e-iω t的作用下，满足强迫振动方程：m0+m0γ+Kx=-eE0e-iω t(1-1-21)式中，m0为电子质量，e为电子的
光学薄膜及应用从光的电磁理论出发，光吸收主要是由介电常数中的虚部引起的。这时，介质的折射率也变为复数。即＝n-ik(1-1-37)式中，为复折射率;n为折射率;k为消光系数。由于消光系数的存在，光在通过电介质时，将
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光学薄膜及应用1.1.4.1 表面统计参量光学材料表面微粗糙的存在，是材料本身及加工过程带来的必然结果。设z(x)是真实表面x处偏离平均平面的高度函数，由于它的高低起伏被认为是一个静态随机过程，为了更好地了解表面的
光学薄膜及应用实际的光学薄膜，由于在沉积过程中工艺条件的变化，在薄膜生长方向上折射率会发生相应的变化，这种现象叫做薄膜的不均匀性，而折射率具有确定的不均匀性的薄膜叫做非均匀膜或渐变折射率薄膜。1.1.5.1 不均匀
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