前面说过，软X射线多层膜的基本理论是建立在一般光学薄膜的基本理论之上的。但是软X射线光波振动的频率高、光子能量大，在多层膜中反射的物理模型与普通的光学薄膜有所不同。几十年来，极紫外和软X射线薄膜得到极大的发展，其中比较重要的工作是不同波段薄膜材料光学常数的获得和多层膜相关理论的建立[1～9]。1972年Spiller在研究了不同材料在软X射线波的光学常数后，提出了利用不同原子序数的材料组合设计软X射线多层反射膜的思想，由此建立了软X射线多层膜的理论基础。
对于波长较长的光波而言(大于100 nm)，光在两种材料的界面上可能具有较高的反射率。但对于软X射线来说，因为波长 ...... （共4639字） [阅读本文]>>
光学薄膜及应用光学薄膜设计的理论基础是麦克斯韦方程组，从理论观点来说，研究薄膜系统的光学特性就是研究平面电磁波通过分层介质的传播，因此处理薄膜问题的最有效方法是解麦克斯韦方程组[1]：·D=4πρ(1-1-1)×E
光学薄膜及应用1) 共振吸收如果把原子分子体系看做是谐振子体系，这个体系在电场E=E0e-iω t的作用下，满足强迫振动方程：m0+m0γ+Kx=-eE0e-iω t(1-1-21)式中，m0为电子质量，e为电子的
光学薄膜及应用从光的电磁理论出发，光吸收主要是由介电常数中的虚部引起的。这时，介质的折射率也变为复数。即＝n-ik(1-1-37)式中，为复折射率;n为折射率;k为消光系数。由于消光系数的存在，光在通过电介质时，将
.jpg)
光学薄膜及应用1.1.4.1 表面统计参量光学材料表面微粗糙的存在，是材料本身及加工过程带来的必然结果。设z(x)是真实表面x处偏离平均平面的高度函数，由于它的高低起伏被认为是一个静态随机过程，为了更好地了解表面的
光学薄膜及应用实际的光学薄膜，由于在沉积过程中工艺条件的变化，在薄膜生长方向上折射率会发生相应的变化，这种现象叫做薄膜的不均匀性，而折射率具有确定的不均匀性的薄膜叫做非均匀膜或渐变折射率薄膜。1.1.5.1 不均匀
上一篇