1) 多层膜结构的测试分析
软X射线多层膜的结构分析主要包括周期厚度的测量和多层膜的结构分析。厚度的测量一般可采用高分辨的台阶仪和高分辨的光学干涉显微镜，但对X光膜的每层厚度来说，这两种方法的测量精度都太差，并且不能对实际的样品进行测量。低角X射线衍射则可解决这些不足，它精度高，且是无损检测，可对实际样品进行测量。低角X射线衍射，一般是利用硬X射线(如铜的Kα线，λ为0.154 nm)，在掠入射角度范围内(如0.1°～15°的掠入射角)，测出样品对入射的X射线的衍射强度。用这种方法可以精确计算多层膜的周期厚度，也可分析多层膜结构的一些情况，如膜层之间的界面特性。
多层 ...... （共2611字） [阅读本文]>>
光学薄膜及应用光学薄膜设计的理论基础是麦克斯韦方程组，从理论观点来说，研究薄膜系统的光学特性就是研究平面电磁波通过分层介质的传播，因此处理薄膜问题的最有效方法是解麦克斯韦方程组[1]：·D=4πρ(1-1-1)×E
光学薄膜及应用1) 共振吸收如果把原子分子体系看做是谐振子体系，这个体系在电场E=E0e-iω t的作用下，满足强迫振动方程：m0+m0γ+Kx=-eE0e-iω t(1-1-21)式中，m0为电子质量，e为电子的
光学薄膜及应用从光的电磁理论出发，光吸收主要是由介电常数中的虚部引起的。这时，介质的折射率也变为复数。即＝n-ik(1-1-37)式中，为复折射率;n为折射率;k为消光系数。由于消光系数的存在，光在通过电介质时，将
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光学薄膜及应用1.1.4.1 表面统计参量光学材料表面微粗糙的存在，是材料本身及加工过程带来的必然结果。设z(x)是真实表面x处偏离平均平面的高度函数，由于它的高低起伏被认为是一个静态随机过程，为了更好地了解表面的
光学薄膜及应用实际的光学薄膜，由于在沉积过程中工艺条件的变化，在薄膜生长方向上折射率会发生相应的变化，这种现象叫做薄膜的不均匀性，而折射率具有确定的不均匀性的薄膜叫做非均匀膜或渐变折射率薄膜。1.1.5.1 不均匀
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