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软X射线多层膜的制备较之可见光多层膜有更严格的技术要求。镀膜设备必须做到：①能按原子尺度在镀膜过程中实时控制膜厚;②膜层足够均匀;③尽量减少界面变粗糙和两种材料在界面处的渗透扩散;④有足够长的稳定时间以适应制备层数很多的多层膜。由于制备技术的困难，最早的一些实验都没有成功。在X射线薄膜的实际制备方面做出重要贡献的是Spiller， Barbee和Steams。他们分别于1985年、1986年和1991年报道了他们在软X射线多层膜制备方面的研究成果[10～12]。如果说在20世纪70年代末80年代初，软X射线多层膜制备还处于探索阶段，所制备的薄膜要么性能比较差，要么性能退化快。那么，随后，软X射线 ...... （共1818字） [阅读本文]>>
光学薄膜及应用光学薄膜设计的理论基础是麦克斯韦方程组，从理论观点来说，研究薄膜系统的光学特性就是研究平面电磁波通过分层介质的传播，因此处理薄膜问题的最有效方法是解麦克斯韦方程组[1]：·D=4πρ(1-1-1)×E
光学薄膜及应用1) 共振吸收如果把原子分子体系看做是谐振子体系，这个体系在电场E=E0e-iω t的作用下，满足强迫振动方程：m0+m0γ+Kx=-eE0e-iω t(1-1-21)式中，m0为电子质量，e为电子的
光学薄膜及应用从光的电磁理论出发，光吸收主要是由介电常数中的虚部引起的。这时，介质的折射率也变为复数。即＝n-ik(1-1-37)式中，为复折射率;n为折射率;k为消光系数。由于消光系数的存在，光在通过电介质时，将
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光学薄膜及应用1.1.4.1 表面统计参量光学材料表面微粗糙的存在，是材料本身及加工过程带来的必然结果。设z(x)是真实表面x处偏离平均平面的高度函数，由于它的高低起伏被认为是一个静态随机过程，为了更好地了解表面的
光学薄膜及应用实际的光学薄膜，由于在沉积过程中工艺条件的变化，在薄膜生长方向上折射率会发生相应的变化，这种现象叫做薄膜的不均匀性，而折射率具有确定的不均匀性的薄膜叫做非均匀膜或渐变折射率薄膜。1.1.5.1 不均匀
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