1.3.4 掩埋背反射镜
虽然可以清楚地证明Si1-xGex合金或Ge量子点使外延晶体硅薄膜太阳能电池的光生电流增加,但是实验仍然不能证明电流的增加足以抵消电压的减小,以至于转换效率反而降低。所以,需要发展Si衬底和Si外延层之间的陷光结构,要求在Si衬底和外延层之间加入折射率不同的介质,形成掩埋背反射镜(buried backside reflector),并且允许外延生长。总体而言,掩埋背反射镜有两种基本的制备技术,即多孔硅中间层(porous silicon interlayer)和外延横向过度生长(epitaxial lateral overgrowth),如图1.14所示。在含HF溶液中阳极电镀(anodization)形成的多孔结构可以控制折射率,多孔硅(porous silicon)可以作为外延生长的模板,并且隔离 ...... (共473字) [阅读本文]>>