2.3.1 区熔再结晶的发展
如果通过高温的化学气相沉积CVD在异质衬底上沉积Si薄膜,典型的晶粒尺寸在μm量级。到目前为止,运用传统晶体硅薄膜太阳能电池工艺,将这种Si薄膜制备为p-n结,得到的最高转换效率低于6%[26, 53, 54]。但是,通过固相再结晶或液相再结晶,晶粒尺寸可以增加数个数量级,从而实现转换效率更高的异质衬底晶体硅薄膜太阳能电池。
应用于异质衬底晶体硅薄膜太阳能电池的再结晶技术需要满足一定的要求:
● 再结晶工艺步骤的成本低于20/m2;
● 相关设备的生产速率至少达5m2/h;
● 再结晶设备不能太复杂,而且具有较高的可靠性;
● 工艺需要实现自动化控制;
● 实现大于100μm的晶粒尺寸。
ZMR是少数几种 ...... (共2060字) [阅读本文]>>