2.3.4.1 设备配置
在20世纪80年代初就有报道,用非相干光源作为热源的区熔再结晶ZMR制备Si薄膜,用于微电子领域的绝缘体上硅SOI应用[101]。10年之后,ZMR应用于异质衬底晶体硅薄膜太阳能电池的研究,先是日本三菱电机在1996年的报道[102],而后是德国弗劳恩霍夫太阳能系统研究所FhG-ISE在1998年的报道[94]。FhG-ISE在2001年报道了改进的设备工艺[103]。虽然ZMR设备的构造(setup)有了多个版本,但是配置的核心部分并没有改变,如图2.4所示。聚焦反射镜(focal mirror)为圆柱状的椭圆反射镜(elliptical reflector)。线性卤钨灯放置在椭圆反射镜的第一个聚焦线上,而Si薄膜样品放置在第二个聚焦线上。底部加热器(base heater)是线性卤钨灯组 ...... (共1298字) [阅读本文]>>