薄膜的内应力主要来源于薄膜本身微结构的变化，这种变化包含以下几层含义：①薄膜与相应的薄膜材料具有相同的晶系，但是受沉积参数及其他因素的影响，薄膜的晶格常数或晶胞结构发生了变化;②相对于体材料，薄膜具有多孔、低维特性，表面、界面以及体与孔的边界，导致薄膜结构的本征变化;③薄膜在沉积过程或环境过程中会发生各种各样的原子迁移或相变，导致薄膜结构发生变化，这种现象在多相薄膜材料中表现得更为明显;④薄膜的沉积或处理过程中由于个别成分的加入、替代或流失，使组分相发生变化。这些变化集中表现为薄膜微观结构和应力状况的变化。下面从晶格变化角度分析薄 ...... （共1282字） [阅读本文]>>
光学薄膜及应用光学薄膜设计的理论基础是麦克斯韦方程组，从理论观点来说，研究薄膜系统的光学特性就是研究平面电磁波通过分层介质的传播，因此处理薄膜问题的最有效方法是解麦克斯韦方程组[1]：·D=4πρ(1-1-1)×E
光学薄膜及应用1) 共振吸收如果把原子分子体系看做是谐振子体系，这个体系在电场E=E0e-iω t的作用下，满足强迫振动方程：m0+m0γ+Kx=-eE0e-iω t(1-1-21)式中，m0为电子质量，e为电子的
光学薄膜及应用从光的电磁理论出发，光吸收主要是由介电常数中的虚部引起的。这时，介质的折射率也变为复数。即＝n-ik(1-1-37)式中，为复折射率;n为折射率;k为消光系数。由于消光系数的存在，光在通过电介质时，将
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光学薄膜及应用1.1.4.1 表面统计参量光学材料表面微粗糙的存在，是材料本身及加工过程带来的必然结果。设z(x)是真实表面x处偏离平均平面的高度函数，由于它的高低起伏被认为是一个静态随机过程，为了更好地了解表面的
光学薄膜及应用实际的光学薄膜，由于在沉积过程中工艺条件的变化，在薄膜生长方向上折射率会发生相应的变化，这种现象叫做薄膜的不均匀性，而折射率具有确定的不均匀性的薄膜叫做非均匀膜或渐变折射率薄膜。1.1.5.1 不均匀
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