一般条件下，薄膜应力的测量都是在薄膜制备以后，甚至是放置了很多天以后进行。所得到的薄膜应力是薄膜的终态应力，它不仅包含了薄膜应力发生发展的全部信息，还包含了薄膜制备之后，环境、时效及所有的物理化学过程对薄膜应力的影响。很难用这些结果直接研究沉积过程和沉积参数对薄膜应力的影响。为了进一步分析在不同沉积参数下薄膜应力的时间过程，必须在薄膜生长过程中和成膜之后对薄膜应力进行实时监控[26]。
1.2.6.1 光学薄膜应力发展的实时探测
图1-2-32 双光束偏转基底曲率测量原理
光学薄膜应力发展的实时探测是在薄膜沉积过程中进行的。应力测量的基本方法是基底形变法 ...... （共6615字） [阅读本文]>>
光学薄膜及应用光学薄膜设计的理论基础是麦克斯韦方程组，从理论观点来说，研究薄膜系统的光学特性就是研究平面电磁波通过分层介质的传播，因此处理薄膜问题的最有效方法是解麦克斯韦方程组[1]：·D=4πρ(1-1-1)×E
光学薄膜及应用1) 共振吸收如果把原子分子体系看做是谐振子体系，这个体系在电场E=E0e-iω t的作用下，满足强迫振动方程：m0+m0γ+Kx=-eE0e-iω t(1-1-21)式中，m0为电子质量，e为电子的
光学薄膜及应用从光的电磁理论出发，光吸收主要是由介电常数中的虚部引起的。这时，介质的折射率也变为复数。即＝n-ik(1-1-37)式中，为复折射率;n为折射率;k为消光系数。由于消光系数的存在，光在通过电介质时，将
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光学薄膜及应用1.1.4.1 表面统计参量光学材料表面微粗糙的存在，是材料本身及加工过程带来的必然结果。设z(x)是真实表面x处偏离平均平面的高度函数，由于它的高低起伏被认为是一个静态随机过程，为了更好地了解表面的
光学薄膜及应用实际的光学薄膜，由于在沉积过程中工艺条件的变化，在薄膜生长方向上折射率会发生相应的变化，这种现象叫做薄膜的不均匀性，而折射率具有确定的不均匀性的薄膜叫做非均匀膜或渐变折射率薄膜。1.1.5.1 不均匀
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