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多层膜实际所能获得的光学特性是与多层膜实际的结构参数相关的，所以，理论设计的薄膜反射率总是与实际测量的结果有所不同。尤其在X射线波段，这种差别更大。其主要原因包括，膜层厚度的随机误差、膜表面粗糙度、膜层界面的粗糙度、膜层界面上的渗透、膜层中的杂质缺陷和结构缺陷以及膜层组分的变化等。在缺乏实际反射率测量的情况下，可以从诸如小角X射线衍射、透射电子显微镜剖面分析，用表面能谱仪进行组分分析等多种方法来获得多层膜的实际状态，在此基础上，用优化拟合的方法得到实际膜层的厚度，粗糙度以及其他结构参数。
2.2.3.1 多层膜周期厚度误差对多层膜性能的影响
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光学薄膜及应用光学薄膜设计的理论基础是麦克斯韦方程组，从理论观点来说，研究薄膜系统的光学特性就是研究平面电磁波通过分层介质的传播，因此处理薄膜问题的最有效方法是解麦克斯韦方程组[1]：·D=4πρ(1-1-1)×E
光学薄膜及应用1) 共振吸收如果把原子分子体系看做是谐振子体系，这个体系在电场E=E0e-iω t的作用下，满足强迫振动方程：m0+m0γ+Kx=-eE0e-iω t(1-1-21)式中，m0为电子质量，e为电子的
光学薄膜及应用从光的电磁理论出发，光吸收主要是由介电常数中的虚部引起的。这时，介质的折射率也变为复数。即＝n-ik(1-1-37)式中，为复折射率;n为折射率;k为消光系数。由于消光系数的存在，光在通过电介质时，将
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光学薄膜及应用1.1.4.1 表面统计参量光学材料表面微粗糙的存在，是材料本身及加工过程带来的必然结果。设z(x)是真实表面x处偏离平均平面的高度函数，由于它的高低起伏被认为是一个静态随机过程，为了更好地了解表面的
光学薄膜及应用实际的光学薄膜，由于在沉积过程中工艺条件的变化，在薄膜生长方向上折射率会发生相应的变化，这种现象叫做薄膜的不均匀性，而折射率具有确定的不均匀性的薄膜叫做非均匀膜或渐变折射率薄膜。1.1.5.1 不均匀
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